在全球半导体产业迈向先进制程、AI算力芯片、高带宽存储(HBM)及先进封装时代的背景下,晶圆制作的完整过程中的环保治理与工艺安全需求正在快速提升。作为保障晶圆厂稳定运行、满足环保合规要求及支撑绿色制造体系建设的关键设备,半导体行业用气体减排系统正迎来新一轮发展机遇。
与传统环保设备不一样,半导体气体减排系统不仅承担废气处理功能,更深度参与晶圆厂生产连续性管理、设备稼动率优化、工艺安全控制以及碳排放管理体系建设。随着全球晶圆厂扩产、高端制程复杂度提升以及碳中和目标持续推进,该行业正从“环保配套设备”逐步升级为“先进制造基础设施”。
半导体行业用气体减排系统(Gas Abatement System)是部署于晶圆制造、先进封装、显示面板、光伏以及化合物半导体生产环节的重要环保与安全设备,通常安装于刻蚀、CVD/ALD沉积、外延、扩散、离子注入、去胶清洗及腔体清洁等工艺设备排气端。
其核心功能是对生产的全部过程中产生的含氟温室气体、酸性气体、可燃气体、有毒气体以及颗粒物进行本地化处理和净化。
从产业价值来看,该类设备已不再是单纯的末端污染治理装置,而是必然的联系到晶圆厂EHS体系建设、设备稳定运行、排放合规管理以及客户审厂认证的重要组成部分。
根据QYResearch半导体研究中心多个方面数据显示,2025年全球半导体行业用气体减排系统市场规模约为16亿美元,预计到2032年将增长至33.51亿美元,2026—2032年复合增长率(CAGR)约为9.5%。
同期全球市场销量将由2025年的19,174套增长至2032年的33,211套,销量复合增速约7.6%。
值得关注的是,行业收入上涨的速度明显高于销量上涨的速度,这表明市场正在从传统燃烧洗涤、湿式处理设备向高的附加价值、高性能解决方案升级,包括:
这一趋势意味着行业未来增长不仅来自新增需求,更来自产品结构升级带来的价值提升。
随着先进逻辑芯片、HBM、3D NAND、Chiplet以及先进封装技术加快速度进行发展,晶圆制造中的刻蚀、沉积、外延和离子注入工艺数量持续增加。
特别是在高层数3D NAND和HBM生产的全部过程中,大量含氟气体、副产物及颗粒物的产生,使得单位晶圆产能对应的减排设备配置密度持续提高。
近年来,全球主要半导体公司开始强化Scope 1直接排放管理,对PFC、NF₃等温室气体破坏去除效率(DRE)提出更高要求。
与此同时,碳足迹核算、排放数据追溯、能源消耗监测以及绿色供应链认证慢慢的变成为晶圆厂的重要考核指标。
这意味着气体减排系统已经从“满足环保要求”升级为“企业ESG管理体系的重要组成部分”。
传统湿式和低效率燃烧系统在能耗、水耗以及维护成本方面已难以满足现代晶圆厂要求,升级替换市场正逐步释放。
从产品技术结构来看,目前燃烧洗涤式系统仍是市场顶级规模的细分路线年销量占比约三成。
与此同时,催化式系统和等离子湿式系统凭借更高的破坏去除效率、更低处理温度以及更强的复杂气体兼容能力,也将保持高于行业中等水准的增长速度。
随着AI服务器和高性能计算需求爆发,HBM生产的全部过程中大量薄膜沉积、刻蚀及清洁工艺推动尾气处理需求快速增长。
与此同时,3D NAND层数持续增加,高深宽比刻蚀工艺进一步提升含氟气体和颗粒物治理难度,从而带动高端减排系统需求增长。
此外,先进封装、SiC/GaN功率半导体、MEMS、RF器件以及CIS图像传感器等特色工艺领域虽然市场规模比较小,但附加值更高,预计未来收入增速将持续领先行业平均水平。
当前全球半导体气体减排系统市场呈现“国际企业主导高端认证市场,本土企业加速国产替代”的竞争格局。
根据QYResearch统计,2025年全球收入排名前五企业合计市场占有率约56%,行业集中度较高。
这些企业长期积累了丰富的工艺数据库、全球客户认证体系以及跨区域服务网络,在先进晶圆厂市场占据领先优势。
中国厂商方面,以盛剑科技、京仪装备等企业为代表,正依托本土晶圆厂扩产和国产替代趋势快速成长。
展望未来,半导体行业用气体减排系统将同时具备“半导体设备”、“环保装备”以及“运维服务”三重属性。
行业增长已不再单纯依赖新增晶圆厂建设,而是由先进制程升级、HBM与3D NAND扩产、绿色制造政策、碳管理要求及存量设备节能改造共同驱动。
预计2026—2032年全球市场将持续保持接近双位数增长,产品结构加速向高端化、低能耗、多级组合化和智能化方向升级。
从长期来看,行业利润池也将逐渐从新增添的设备销售扩展至耗材供应、备件更换、运维服务、节约能源改造以及排放数据管理等高的附加价值领域。
对于设备厂商、晶圆厂投资者以及环保科技公司而言,半导体气体减排系统已不再是传统意义上的辅助设备,而是支撑先进制造、绿色制造和低碳制造的重要战略基础设施。随着全球半导体产业持续扩张,这一市场有望成为未来高端环保装备领域最具成长性的细分赛道之一。返回搜狐,查看更加多
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